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工艺平台

具备高精度光刻、低损耗厚膜生长、干法刻蚀、光学耦合检测等全流程工艺能力

        群发硅光生产线以纯硅光工艺实现OPA芯片全流程制造,突破传统技术在材料与结构上的限制,具备高精度光刻、低损耗厚膜生长、干法刻蚀、光学耦合检测等全流程工艺能力。
 

        作为国内实现硅光器件仿真设计、生产制造、封测验证及产品销售全链条贯通的企业,生产线配备硅光集成芯片工艺与器件PDK(工艺设计包),具备180nm节点硅光工艺的开发和生产能力,可适配光通信、光传感等多类型产品的流片加工需求。
 

        依托自主知识产权的硅光芯片工艺解决方案,生产线组建了专业研发与工艺团队,能够根据客户需求提供完整制程服务,为硅光产业技术转化与规模化应用提供坚实支撑。

6

工艺

50 +

核心设备

6000

占地面积

核心工艺模块

图片名称

仿真设计

图片名称

镀膜

图片名称

光刻

图片名称

刻蚀

图片名称

耦合测试

服务流程

01

签署NDA


点击下载NDA文件,签署完成后寄送到:sales@yzqunfa.cn

02

获取PDK


收到用户签署的NDA文件后,将发送PDK文件到用户注册邮箱。

03

注册流片


请参考日程选择合适流片周期,发送至:sales@yzqunfa.cn

 

收到预订信息后,3个工作日内将发送订单至邮箱确认,请您注意查收。